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1200℃三温区HPCVD系统

产品型号:OTF-1200X-III-HPCVD-SE
产品品牌:上海升利
产品概述:
OTF-1200X-III-HPCVD-SE是一款HPCVD(物理/化学混合气相沉积)系统,带有独特的原料推进系统和1350℃原位蒸发枪。原料推进系统和同时/依次将3种反应原料推入到炉管中(可设定推入位置和推进速度),以达到适合的蒸发温度。温度可控型原位蒸发枪,最高温度可达1350℃,也可多固体原料原位蒸发。所以此系统可对4种固体或液体源供蒸发。此设备适合各种HPCVD实验,特别适用于制备多层二维晶体材料。操作面板为PLC触摸屏,用户可设置进料速度,进料位置及实时监测蒸发原料的温度。

炉体结构

独特的原料推进系统可在真空或气氛保护环境下同时/依次推进3种原料进入到管式炉中(河实时监测其温度) , 温度可控型原位蒸发枪,最高温度可达1350°C ,给用HPCVD法生长多层膜

炉体为三温区开启式管式炉,由三个独立的温控系统控制每个温区,其控温精度可达+0.1°C.双层壳体结构,并带有风冷系统
采用氧化铝纤维作为炉膛材料,表面涂有高温氧化铝涂层,可提高加热效率,和延长使用寿命
炉体开启式设计,便于跟换炉管,并粗带有开启断电功能,保证操作安全

电源要求
单相208~ 240VAC
最大功率9KW (需60A的空开关)


加热区

三个加热区,每个加热区长度: 300mm
总加热区长度: 900mm


恒温区

恒温区长度: 625mm(+2°C )
(三个温区设置同样的加热温度)


工作温度

最高工作温度: 1200°C( <1hr )

连续工作温度: 100~1100°C



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  李总:138-1739-9656

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